Proporcionar a los participantes los conocimientos y herramientas para entender los conceptos asociados al análisis con plasma inductivamente acoplado (ICP), sus diferentes usos y configuraciones para detectar diversos analitos de interés.
- Conocer la terminología, definiciones y conceptos relacionados con la medición de metales por métodos ICP-OES e ICP-MS.
- Conocer los diferentes componentes de un equipo ICP.
- Conocer los sistemas ópticos y de masas acoplados a equipos ICP.
- Conocer las diferentes configuraciones de los equipos ICP.
- Ser capaz de realizar el procesamiento de datos y la resolución de problemas comunes en ICP (troubleshooting).
Dirigido a
Encargados de calidad, jefes de laboratorio y analistas de laboratorio.
Temario del curso
01Fundamentos
- Selección de la técnica adecuada: comparación AAS, ICP-OES e ICP-MS
- Fundamentos de la técnica de ICP
- Rango de trabajo
- Aplicaciones en las diferentes matrices
- Limitaciones metodológicas
- Interferentes
- Efecto de la matriz
02Elementos del equipo ICP-OES
- Nociones y fundamentos de la técnica
- Análisis de elementos mayoritarios, trazas y ultratrazas
- Instrumentación de un ICP-OES: equipos secuenciales y simultáneos
- Sistema de introducción de muestras
- Visión axial, radial y dual (comparación)
- Aplicación: análisis de muestras
03Elementos del equipo ICP-MS
- Nociones y fundamentos de la técnica
- Controles generales del equipo
- Encendido del plasma y visualización de parámetros
- Parámetros de optimización (tuning)
- Interfaz plasma/vacío
- Enfoque de iones, celda de colisión/reacción
- Separación de iones
